价值投资研究报告摘要：
摘要：
投资建议。http://www.hibor.com.cn【慧博投研资讯】受益于关键内资产线扩产拉动以及技术不断取得新突破，国产设备市场需求将不断增大。http://www.hibor.com.cn（慧博投研资讯）推荐设备龙头中微公司(688012.SH)及北方华创（002371.SZ）。同时清洗设备龙头盛美半导体（ACMR.O）、芯源微（688037.SH）、沈阳拓荆、华海清科、北京屹唐以及上海微电子也受益产业发展。
CVD设备包括大气压化学气相沉积APCVD设备、低压化学气相沉积LPCVD设备、等离子化学气相沉积PECVD设备、原子层沉积ALD设备以及MOCVD设备等。其中PECVD设备是目前应用最广泛的类型，其约占37%的市场份额；而ALD设备更适用于在复杂的表面形状和高深宽比结构中生长超薄薄膜。MOCVD设备属于泛半导体设备，其主要用于制备半导体光电子、微电子器件领域的各种砷化镓、氮化镓等三五族化合物。
全球CVD设备市场规模不断增长，内资产线扩产拉动国产设备需求。根据集邦咨询数据，全球半导体CVD设备市场规模在2017年约为83.7亿美元，预计到2023年可以达到89.4亿美元。其中ALD设备市场需求将明显加大，其在2017年为11亿美元，并有望在2023年达到23亿美元，占CVD设备总市场份额也将从2017年13%提升到25%。随着内资产线的不断扩产，关键内资产线2020年CVD设备需求空间可以达到80亿元。
国外厂商主导市场，国内厂商加速突破。CVD设备市场主要被AMAT、LAM、TEL等国外厂商所瓜分，以上三家约占全球市场份额的70%。但是国内厂商也不断实现突破。在LED芯片领域，中微半导体的MOCVD在国内已实现国产替代。北方华创先后完成了PECVD、APCVD、LPCVD、ALD等设备的开发，其ALD设备目前已经进入28nm产线，并且在主流代工厂14nm产线进行验证。沈阳拓荆拥有12英寸PECVD、ALD、3DNANDPECVD（三维结构闪存专用PECVD设备）三个完整系列产品，目前已中标长江存储与华虹系产线共计约10台CVD设备。
风险提示。设备公司新产品开发及验证进度不及预期的风险；下游产线资本支出不及预期带来的风险；中美贸易摩擦的不确定性的风险。